装置紹介
Automatic Wafer Probers
       
  • 薄膜の磁気抵抗効果(MR)を自動的に測定する装置
  • MR測定結果
磁歪測定装置
       
  • 回転磁界によるレーザー方式
  • 測定精度λS=10-7
  • 磁歪測定結果
高倍率磁区観察装置
       
  • 磁区観察総合倍率250倍~500倍
  • 磁区観察方向面内/垂直
  • 垂直磁化細線TbFeCoの磁区構造
高倍率粗さ形状測定機
       
  • 縦倍率200万倍
  • ナノメータ領域までの表面粗さ測定
SPMdinnova
       
  • 走査型プローブ顕微鏡
  • マイクロメータ領域まで観察可能
  • ハード・ディスク・ドライブの磁気力顕微鏡MFM)画像。
露光装置
       
  • マスクが必要なく、直接露光できる。分解能〜1μm
  • 露光後、現像したレジストの光学画像
VSM(振動試料型磁力計)
       
  • 最小外部磁場測定範囲 ±0.25 Oe
  • 最大外部磁場±24 kOe
  • NdFeB薄膜のM-Hループ
VSM(振動試料型磁力計)
       
  • 軟磁性及び硬磁性材料の評価をできる。
  • 最大外部磁場±15 kOe
  • 軟磁性薄膜のM-Hループ

スパッタ装置
       
  • 三元DC/RFマグネトロンスパッタ装置

スパッタ装置
       
  • 三元対向ターゲット式スパッタ装置

スパッタ装置
       
  • 三元対向ターゲット式/DCマグネトロンスパッタ装置

スパッタ装置
       
  • 三元DCマグネトロンスパッタ装置

スパッタ装置
       
  • 六元ヘリコンスパッタ装置
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